主要用途：

  广泛用于LED蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、石英晶片、陶瓷、硅片、诸片、模具、导光板、不锈钢，光扦接头等各种材料的单面研磨、抛光。

工作原理：

  本平面抛光机为精密研磨抛光设备，被磨、抛材料放于研磨盘上，研磨盘逆时钟转动，修正轮带动工件自转，重力加压的方式对工件施压，工件与研磨盘作相对运转磨擦，来达到研磨抛光目的。

特点：

   1．采用间隔式自动喷液装置，可自由设定喷液间隔时间。

   2.  该抛光机工件加压采用气缸加压的方式，压力可调； 抛光后工件表面光亮度高、无划伤、无料纹、无麻点、不塌边、平面度高等特点。抛光后工件表面粗糙度可达到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范围内。

   3．该抛光机采用PLC程控系统，触摸屏操作面板，研磨盘转速与定时可直接在触摸屏上输入。

技术参数：