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- 产品参数
- 图文介绍
- 企业简介
- 企业地址
产品参数
品牌
郑科探
规格
台
类型
教学实验
型号
KT-Z1650CVD
控制方式
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
加热方式
数字式功率调整器
输出电压
电压≤12V
镀膜功能
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品
输出电流
电流≤120A
最大功率
≤1200W
样品台
可旋转φ62 （可安装φ50基底）
挡板类型
电控
图文介绍
小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD
是一款小型多功能镀膜仪，额定1800度高温，自动样品挡板，靶台旋转，触摸屏多段控制，工艺储存等功能。
真空蒸发镀膜包括以下基本过程：（1）加热蒸发过程：包括由凝聚相转变为气相的过程，每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。（2）气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输，即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。
（3）蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发，凝聚，成核，核生长，形成连续的膜。由于基板温度远
低于基板温度远低于蒸发源温度，因此，气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。
小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD
是一款小型多功能镀膜仪，额定1800度高温，自动样品挡板，靶台旋转，触摸屏多段控制，工艺储存等功能。
真空蒸发镀膜包括以下基本过程：（1）加热蒸发过程：包括由凝聚相转变为气相的过程，每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。（2）气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输，即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。
（3）蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发，凝聚，成核，核生长，形成连续的膜。由于基板温度远
低于基板温度远低于蒸发源温度，因此，气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。
企业简介
企业法人：
宋风宽
企业类型：
有限责任公司(自然人独资)
成立日期：
2017-06-15
经营状态：
-
工商注册号：
410199000204879
社会统一信用代码：
91410100MA442L4G2B
组织机构代码：
-
注册资金：
101.000000万人民币
经营范围：
实验室电炉的安装；实验室设备的研究；智能化控制系统技术服务；软件开发；货物进出口、技术进出口；销售：仪器仪表、电子元件及组件、高低压成套设备、机电设备、五金交电、阀门管件、工业电炉、实验室设备。
企业地址
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15515545802
