制冷加热控温系统

控温范围：-120°C ~ +300°C

特点：不仅可以控制导热介质温度，还可以控制反应物料温度

应用：各种反应器（微通道、玻璃、夹套反应器等）、蒸馏或萃取系统、实验室、大学、研究所、航空航天、汽车工业、半导体和电气测试、化学、制药、石化、生化、研发车间、航空航天和生物等行业。

　　日常保养半导体温控设备是确保其正常运行和延长使用的重要环节，以下是一些具体的保养方法。

　　一、外观清洁与防护

　　首先，保持设备外观的整洁干净是基础保养步骤。定期使用柔软、无绒布轻轻擦拭设备外壳，去除表面的灰尘、污渍以及可能飘落的细微颗粒。这不仅能维持设备的良好形象，更重要的是防止灰尘通过散热孔、缝隙等进入内部，干扰电子元件的正常散热，进而影响温控精度。同时，对于设备周边环境，也要保持清洁，避免杂物堆积，防止意外碰撞对设备造成损坏。特别注意清理设备的进风口和出风口，防止灰尘堵塞影响散热效果。同时，定期清洁防尘网，确保空气流通。

　　二、温度传感器校准

　　温度传感器的准确关乎温控效果。定期使用校准仪器对温度传感器进行校准。由于半导体工艺对温度要求高。在校准过程中，需要按照设备要求确保传感器能感知温度，为控制系统提供可靠的数据支持，让设备的控温精度始终维持正常水平。

　　三、散热系统维护

　　半导体温控设备在运行过程中会产生热量，散热系统直接影响设备使用。定期检查散热风扇的运转情况，查看风扇叶片是否有变形、损坏或异物缠绕，若发现问题及时清理或更换叶片，保证风扇能够高速稳定地转动，为设备提供强劲的风冷散热。对于散热鳍片，要注意查看是否积尘过多，积尘会降低热交换效率，可使用压缩空气或软毛刷轻轻清理，确保热量能够顺畅散发出去，避免因散热不畅引发设备过热保护。